진공 챔버 내부에 전자빔 건을 탑재한 "E" 시리즈 용접 시스템의 한 종류입니다.

이 시스템은 15~150m³의 진공 챔버 용량을 가질 수 있으며, 어떤 빔 경로와 각도에서도 용접이 가능합니다.

전자빔 건은 5축 기계식 갠트리 시스템을 이용하여 구동됩니다.

이 시스템은 적층 제조(와이어 전자빔 용접)에 사용될 수 있습니다.​

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장비:

• 챔버 내 전자총

• 총을 이동시키기 위한 5축 포털

• 움직이는 부품용 테이블

• 회전 장치

• 감시 시스템

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옵션:

• 간접 가열식 음극

• 전자총의 음극 영역을 설비의 진공 챔버 작동 영역으로부터 차단할 수 있는 셔터

• 먼지 방지 기능이 있는 빔 동축 비디오 감시 시스템, 반사 전자 감시 시스템, 개요 비디오 카메라

• 단일 또는 다중 위치 회전 장치, 회전축 기울임 기능 유무, 부품 고정 기능 유무

• 음극 교체용 카트리지

• 용접 부위에 용접봉 공급